Tese: Processos de Revestimento de Cilindros Fotossensíveis
Aluno(a) : Danmer Paulino Maza Quií±onesOrientador(a): Márcio Carvalho
Área de Concentração: Termociências
Data: 10/08/2009
Link para tese/dissertação: http://www.maxwell.lambda.ele.puc-rio.br/Busca_etds.php?strSecao=resultado&nrSeq=7357@1
Resumo: Cilindros fotorreceptores sío usados na arte de impressío e particularmente na impressío eletrofotografica. O revestimento é aplicado no cilindro em forma líquida antes de solidificar-se. O líquido é aplicado ao cilindro através de um aplicador de agulha que se translada ao longo da direção axial do cilindro. Durante este processo o cilindro gira em torno de seu próprio eixo levando a uma deposição, da tira de líquido sobre a superfície do cilindro, em padrío espiral. Para ajudar a distribuir o líquido lateralmente e assim melhorar a uniformidade da espessura, cada tira de líquido aplicada pela agulha passa por meio de uma lâmina flexível. Este processo leva a um revestimento que apresenta um padrío espiral na espessura da camada revestida que pode causar defeitos no processo eletrofotografico. O conhecimento, de forma fundamental, do escoamento é vital para a otimização do processo. Um modelo teórico de escoamento de filmes finos sobre superfícies cilíndricas em rotação com uma porta de injeção de líquido em movimento é apresentado. Este modelo é baseado na teoria de lubrificação considerando um filme precursor na frente da linha de contato aparente. A equação diferencial parcial nío linear de quarta ordem resultante para a espessura do filme revestido foi resolvida usando o método de diferenças finitas de segundo ordem. A discretização do tempo foi feita pelo método implícito de Crank-Nicholson. A discretização do sistema a cada passo do tempo leva a um sistema de equações algébricas nío lineares que foi resolvida pelo método de Newton. Os resultados mostram como a uniformidade da camada depositada varia com os parâmetros do processo e com as propriedades do líquido.